时间转yan间就到了十月中旬……

整个盖世集团的业务已经又上了一层楼，先是盖世电qi推chu了xia半年的第二款线产品主shi专家，且清扫专家接连拿xia了近期的好几项国nei外大奖；然后，盖世重工在徐城市与徐工合资的工厂、在苏府市与三七重工合资的工厂也接连破土动工！

在这时候，盖世集团旗xia的一家不起yan的zi公司，在新厂区nei推chu了自己的首款产品光刻胶！

这家公司正是杨越获得系统黑科技之后成立的盖世电zi化学制品有限公司，专门负责以系统黑科技为依托，全力研发先jin电zi化学品的xia属企业。

而这家公司推chu的首件产品光刻胶，正是市场需求特别大，严重依赖jinkou的产品，所以一直被杨越寄予厚望，甚至连前段时间chou调人才去研发第五代先jin石墨烯电池的时候，仍然保留了bu分人才继续这个项目的研发。

好在留xia的系统人才不负杨越厚望，终于在这时候拿chu了成品！

可能很多人听过或在新闻报dao中看过光刻机、蚀刻机以及n工艺这样的术语，但对于光刻胶却还是十分陌生的……

在集成电路工业生产中，硅圆片经过检查无破损后即可投ru生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就jinru到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印技术，也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。

首先将光刻胶（gan光xing树脂）滴在硅晶圆片上，通过gao速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜，并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。

涂好了光刻胶才能jinru光刻机jin行曝光，让紫外线在光刻胶上生成掩膜中的电路图，必要的时候还要多重曝光，反复使用光刻胶，因此没有这一步电路是造不chu来的。

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分mingan的材料，可以在光照后发生化学xing质的改变，这是整个工艺的基础。

光刻胶有不同的类型，pa（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亚胺（pgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以zuo光刻胶。据有关资料显示，到2022年全球光刻胶市场市场价值将达到415亿mei元，年复合增长率55算起来这个市场比光刻机产值还要大得多，毕竟光刻胶是耗材。

目前光刻胶市场上的参与者多是来自于mei国、日本、韩国等国家，包括陶氏化学、杜bang、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，天朝公司在光刻胶领域也缺少he心技术。

但偏偏光刻胶技术却是整个光刻工艺中最最he心的技术之一！想弯dao超车都是绝对绕不过去的一个关键环节！

其实，光刻胶这种产品早已有之，光刻胶被应用在印刷工业上已经超过一个世纪了。但直到上世纪20年代，人们才发现它在印制电路板领域可以有广泛的应用。半导ti工业采纳这种技术来生产晶圆是在20世纪50年代

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